Segondè Pite Tantal Powder

Anplis de sa nan fim sputtering nan teknoloji semi-conducteurs, poud Tantal sa a ka itilize tou pou lòt aplikasyon, tankou aplikasyon medikal ak kouch sifas yo.

Metòd sa a pou fabrike poud Tantal pite-wo gen ladan etap sa yo nan sekans.

1) idwojèn ingot Tantal-wo pite a

2) kraze ak tamize chips Tantal yo jwenn nan idrojenasyon nan lengote Tantal yo ak Lè sa a, pirifye yo pa lave asid yo retire kontaminasyon an nan enpurte te pote nan pwosesis la fraisage boul.

3) Dehydrogenation segondè-tanperati nan poud Tantal ki kapab lakòz

4) deoksidasyon nan poud Tantal ki kapab lakòz

5) lave asid, lave dlo, siye, ak tamize poud Tantal la

6) Poud Tantal la sibi tretman chalè ba-tanperati, Lè sa a, refwadi, pasivasyon, egzeyate, ak tamize yo jwenn pwodwi a fini.

Nan pwosesis fabrikasyon an, lengote Tantal pite segondè yo defini kòm sa yo ki gen yon kontni Tantal 99.995 pousan oswa plis. Lengote sa yo ka jwenn nan yon varyete fason, pou egzanp pa SINTERING oswa bonbadman elèktron nan tanperati ki wo lè l sèvi avèk poud Tantal ki pwodui pa divès pwosesis kòm matyè premyè. Lengote sa yo disponib tou nan komès.

Pa gen okenn restriksyon sou ki jan bato yo Tantal idwojene yo ka kraze, pou egzanp pa vle di nan yon plant kraze Airflow oswa yon moulen boul, men de preferans tout patikil yo poud Tantal kraze yo ta dwe kapab pase nan yon ekran nan 400 may oswa pi wo, egzanp 500 may, 600 may oswa 700 may. Pi wo gwosè may la, pi rafine poud Tantal la, men si poud lan twò amann, tankou pi wo a 700 may, li pi difisil pou kontwole kontni oksijèn nan poud Tantal la. Se poutèt sa, tamizaj la nan etap 2) de preferans refere a tamize ant 400 ak 700 may. Pou rezon ilistrasyon epi yo pa limitasyon, yo itilize moulen boul kraze nan aplikasyon an.

Kontrèman ak dehydrogenation ba-tanperati, ki itilize nan jaden an pou ekonomize enèji, dehydrogenation wo-tanperati de preferans fèt nan fabrike nan chofe poud Tantal la anba pwoteksyon gaz inaktif epi kenbe li cho pou apeprè 60-300 minit (egzanp. apeprè 120 minit, apeprè 150 minit, apeprè 240 minit, apeprè 200 minit) nan apeprè 800-1000 degre (egzanp sou 900 degre, sou 950 degre, sou 980 degre, sou 850 degre, sou 880 degre). Lè sa a, poud Tantal la refwadi desann, retire nan gwo founo dife a, epi tamize pou jwenn poud Tantal dehydrogenated la. Surprenante, envantè yo te jwenn ke tanperati ki pi wo ki dekri pou dehydrogenation te fè li posib diminye aktivite sifas an menm tan ak dehydrogenation la.

Nan etap 4, poud Tantal la deoksidize nan yon tanperati ki ba, sa vle di tanperati maksimòm pwosesis la se de preferans pa pi wo pase tanperati dehydrogenation, ki jeneralman apeprè 50-300 degre anba tanperati dehydrogenation (egzanp apeprè 100 degre, apeprè 150 degre, apeprè 180 degre, apeprè 80 degre, apeprè 200 degre), ki se ase pou reyalize objektif la nan deoksijenasyon pandan y ap asire ke patikil yo Tantal pa frintize oswa grandi pou ke patikil yo oksid mayezyòm oswa mayezyòm pa vin ankapsule nan. patikil Tantal yo. Patikil mayezyòm oswa oksid mayezyòm yo ankapsule nan patikil Tantal yo epi yo pa ka fasil retire pandan pwosesis marinated ki vin apre a, sa ki lakòz yon kontni mayezyòm segondè nan pwodwi a fini.

Deoksidasyon se te pote soti nan ajoute yon ajan rediksyon nan poud Tantal la. De preferans, pwosesis dezoksidasyon di a anjeneral te pote anba pwoteksyon gaz inaktif. Anjeneral, ajan diminye nan kesyon an gen yon pi gwo afinite pou oksijèn pase Tantal fè pou oksijèn. Ajan rediksyon sa yo se, pou egzanp, metal alkalin tè, metal latè ra, ak idrid yo, pi souvan poud mayezyòm. Kòm yon reyalizasyon pi pito espesifik, sa ka reyalize pa melanje poud Tantal ak {{0}}.2-2.0 pousan poud metal mayezyòm pa pwa nan poud Tantal, chaje plato a lè l sèvi avèk metòd ki dekri nan Patant Chinwa CN 102120258A, chofaj anba pwoteksyon gaz inaktif, kenbe nan approx. 600-750 degre (egzanp environ 700eC) pou environ. 2-4 èdtan, apresa evakye epi kenbe ankò anba evakyasyon pou apeprè. 2-4 èdtan. Lè sa a, tanperati a bese, pasivasyon, epi retire nan gwo fou a pou jwenn yon deoksidize, poud Tantal ki wo-pite.

Avantaj nan metòd sa a se konbinezon de dehydrogenation wo-tanperati, deoksidasyon ba-tanperati, ak tretman chalè ba-tanperati. Kòm poud nan Tantal anvan tout koreksyon gen idrid ki inevitableman ki te pwodwi pa absòpsyon nan idwojèn, pwopriyete li yo (egzanp lasi konstan, rezistans elektrik, elatriye) yo chanje nan fason ki pa ka ankò konplètman elimine pa dehydrogenation konvansyonèl ba-tanperati. Objektif itilize dehydrogenation ba-tanperati se pou fè pou evite kwasans patikil sintered ki te koze pa tanperati deoxygenation segondè.

The above-mentioned combination of high-temperature dehydrogenation, low-temperature deoxidation, and low-temperature heat treatment avoids the sintering and growth of tantalum powder particles caused by high temperatures in the conventional process (i.e. dehydrogenation and deoxidation at the same time) and the encapsulation of magnesium or magnesium oxide particles inside the tantalum particles, resulting in poorly controllable particle size and high magnesium content in the final product; it also avoids the problem of incomplete dehydrogenation caused by low temperatures, resulting in high hydrogen content. The problem of high hydrogen content due to incomplete dehydrogenation caused by low temperatures is also avoided. The low-temperature heat treatment mainly removes the residual magnesium metal after deoxidation, the impurities such as H and F from the pickling, and ensures that the particles do not grow, so that the impurity content is well controlled while achieving the particle size requirements. In the end, the method of the invention resulted in a high-purity tantalum powder with a purity of >99.995 pousan pa GDMS.

Tantal poud konparezon pèfòmans

Baj popilè: poud Tantal pite segondè, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, achte, pri, sitasyon, bon jan kalite, pou vann, nan stock