Kòm nou tout konnen, youn nan endikatè pèfòmans kle sib la se pite. Kondisyon yo pite nan sib la diferan nan aplikasyon pratik. Itilize nan materyèl sib-wo pite Titàn se pi chè epi li gen yon fenèt aplikasyon ki pi piti pase tipik endistriyèl pi Titàn. itilizasyon prensipal yo pou objektif Titàn pite-wo?
Objektif Titàn pite yo sitou itilize pou:
1. Byolojik konpozan
Depi Titàn se pa mayetik, yon gwo jaden mayetik pa pral lakòz li vin magnetize. Li travay byen ak kò imen an epi li pa gen okenn efè segondè negatif. Li ka itilize pou kreye enplantasyon pou kò imen.Sepandan, bay yap divòse nan enpurte nan Titàn, pite a nan Titàn pou enplantasyon yo ta dwe osi wo ke se pratik. An jeneral, materyèl medikal Titàn pa rive nan nivo segondè-pite Titàn.Byological strapping ka fèt soti nan fil-wo pite Titàn.The katetè-embedded zegwi piki Titàn te menm jan an tou rive nan nivo a pite-wo Titàn.
2. Materyèl pou dekorasyon
Titàn wo-pite kenbe koulè orijinal natirèl li yo menm apre ekspoze pwolonje nan atmosfè a gras a rezistans segondè li yo nan korozyon atmosferik. Kòm yon rezilta, materyèl pou dekorasyon achitekti kapab tou fèt ak pite segondè Titàn.Anplis de sa, nan dènye ane yo, Titàn. yo te itilize pou fè plizyè akseswa ak rad pwolongasyon, ki gen ladan braslè, mont, ak ankadreman linèt. Titàn yo itilize paske li rezistan a korozyon, li pa chanje koulè, li ka kenbe yon bon ekla pou yon peryòd trè long, epi li pa irite po moun lè li antre an kontak ak li. Nivo pite 5N pou Titàn ki itilize nan. gen kèk anbelisman yo te reyalize.
3. Ranmase materyèl
Titàn se yon metal patikilyèman reyaktif ak karakteristik chimik ki pèmèt li kominike avèk yon gran varyete sibstans nan tanperati ki wo. Bonjan adsorption gaz aktif rive sou sifas Titàn pite segondè, ki gen ladan O2, N2, CO, CO2, ak vapè dlo. plis pase 650 degre. Sou miray ponp lan, fim nan Ti ki evapore ka kreye yon sifas ki gen yon kapasite adsorption segondè. Akòz karakteristik sa a, Ti souvan itilize kòm yon getter nan sistèm pou ponpe vakyòm ekstrèmman wo.Pwesyon fonksyònman final la nan ponp ion sputtering la ka osi ba ke 10-9Pa lè yo itilize nan ponp sublimasyon, ponp ion sputtering, elatriye.
4. Medya enfòmasyon sou fòm elektwonik
Itilizasyon segondè-pite Titàn nan sib sputtering, sikui entegre, DRAM, ak ekspozisyon plat-panèl te elaji dènyèman kòm yon rezilta nan ekspansyon rapid endistri gwo teknoloji yo nan zòn tankou teknoloji semi-conducteurs ak teknoloji enfòmasyon. Avanse pi devan.Kòm baryè difizyon ak materyèl fil elektrik pou elektwòd kontwòl nan endistri semi-conducteurs VLSI a, konpoze Silisyòm Titàn, konpoze nitwojèn Titàn, konpoze Titàn tengstèn, elatriye.Materyèl sa yo pwodui lè l sèvi avèk teknik sputtering, ki mande pou yon sib Titàn ak yon wo. degre nan pite, patikilyèman pou eleman radyo-aktif ak metal alkali.
Dènyèman, Titàn segondè-pite ki matche ak pite nan sib la Titàn yo itilize nan pwosesis la sputtering te tou te kòmanse yo dwe itilize.Titàn pite kounye a bezwen yo dwe omwen 4N5 (99.995%) oswa 5N (99.999%) pou 4 Mbit VLSI, pandan ke li bezwen omwen 6N (99.9999%) pou 16 Mbit twazyèm jenerasyon VLSI.
